不用光刻機也能造晶片?外企新訊息傳來,ASML猝不及防

不用光刻機也能造晶片

不用光刻機也能造晶片?外企新訊息傳來,ASML猝不及防

由於最近幾年美方面的限制問題,讓全球都開始關注起了晶片製造產業鏈的構建問題,

不光是在國內一批半導體企業開始加速晶片製造的國產化進度,在海外市場上也在積極推動晶片製造技術的發展。

但是,到目前為之有關於晶片製造環節中,有一環一直是繞不過去的,那就是EUV光刻機,在晶片的製造過程中,光刻環節是非常複雜的,

特別是高精度的晶片製造,對於光刻機的光源更是有著極高要求,因此全球市場對於高精度EUV光刻機都是處於供不應的狀況。

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但是,到目前為之,全球僅有荷蘭的ASML公司有能力製造EUV光刻機,可以說在EUV光刻機上,ASML公司實現了全球性的技術壟斷,但是面對這種壟斷,全球其它地區也是無可奈何,

畢竟當下還無法打破ASML的這種壟斷。

在這樣的情況之下,ASML公司每年生產的EUV光刻機的售價也是賣到了近10億元的高價,這就造成了晶片代工行業的巨大壓力。

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而在這種市場情況之下,最近外企鎧俠一則新訊息的傳來,似乎是打破了ASML公司在EUV光刻機市場的壟斷,

根據鎧俠方面的描述顯示,它們已經實現了在不使用光刻機的情況之下也能製造晶片的能力。

ASML公司猝不及防

這則訊息的出爐帶給業界的震撼效果是毋庸置疑的,畢竟一直以來在晶片製造的光刻環節中,普遍的技術手段就是使用光刻機來進行電路光刻,

如今按照鎧俠的說法是似乎可以繞過光刻機了,如果該技術真的成熟的話,那無疑會為晶片製造節省很多資金。

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而根據鎧俠方面的描述顯示,這項技術就是奈米壓印微影技術,據悉鎧俠採用奈米壓印微影技術製造晶片起步於2017年,如今已經掌握了15nm的量產技術,並正在向15nm以下的工藝研發,預計2025年開始生產,而奈米壓印微影技術的電路精細度可以達到5nm,

這也就是說,鎧俠似乎有可能在不使用ASML公司生產的EUV光刻機的情況之下量產5nm工藝製程的晶片。

聽到這則訊息估計ASML公司是猝不及防的,因為如果真的這樣了,

那對於ASML公司的發展來說將會是重大打擊,畢竟ASML公司最賴以生存的就是EUV光刻機技術。

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同時,鎧俠的這項技術似乎也能夠幫助我國的一些企業擺脫晶片製造上的困局,不過如果要等到2025年的話,也許我們也不需要這項技術了,

因為根據之前ASML公司CEO的預測我國將在5年內攻克晶片產業鏈上的所有技術困局。

總結

不用光刻機也能造晶片?外企新訊息傳來,ASML猝不及防

畢竟當下我國相關科技機構和頂尖高校在EUV光刻機光源技術上已經取得了突破性進展,相信完善國產EUV光刻機技術也會在近幾年實現,

屆時我國將真正擺脫晶片製造能力“薄弱”的困擾,實現晶片產業鏈的高度自主化供應,屆時擋在我國企業面前的所有晶片難題都將被突破。

不過,鎧俠的奈米壓印微影技術也是有可取之處的,畢竟只有在光刻環節中實現技術多元化才可以更好地打破技術壟斷的局面,而沒有了技術壟斷,全球晶片事業的發展也才會更加順暢。

你覺得鎧俠的奈米壓印微影技術能否完全取代ASML公司的EUV光刻機呢?