機構:7nm以下邏輯器件極大地推動了全球ALDCVD前驅體的增長
TECHCET高階技術分析師Jonas Sundqvist表示:“ALD和CVD是一個材料和化學成分豐富的細分行業,具有重大的發展努力,增長前景強勁,對新材料的需求也很大,同時滿足成本和效能的新制造解決方案將依賴ALD前驅體材料[…]
閱讀全文TECHCET高階技術分析師Jonas Sundqvist表示:“ALD和CVD是一個材料和化學成分豐富的細分行業,具有重大的發展努力,增長前景強勁,對新材料的需求也很大,同時滿足成本和效能的新制造解決方案將依賴ALD前驅體材料[…]
閱讀全文他們的這種專有方法使用到了空間ALD技術,具體來說,他們用這種技術在奈米疊層中沉積了多層氧化銦、氧化鎵和氧化鋅結構,這些內容會在下面作進一步介紹[…]
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