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ASML目前的局勢

目前來說，阿斯麥是全世界光刻機制造技術發展最前列的廠商，其設計製造的EUV光刻機，成為了全世界晶片廠商一直相爭購買的裝置。

但是雖然阿斯麥設計研發除了EUV光刻機，但是因為瓦森納協議，一直不能實現自由出貨。

那麼所謂的瓦森納協議到底是什麼呢？

《瓦森納協定》，又被叫做瓦森納安排機制，全稱是《關於常規武器和兩用物品及技術出口控制的瓦森納安排》，它由全球裡面主要的工業裝置和武器製造國在巴黎統籌委員會解散之後，在1996年成立的一個用於控制常規武器和高新技術貿易的國際性組織。當前的《瓦森納協定》有33個成員國。協定中一是軍民兩用商品和技術清單，包括先進材料、電子器件、計算機、電信和資訊保安、感測與鐳射、導航與航空電子儀器、船舶等9大類；二就是軍品清單，涵蓋了各類武器彈藥、裝置等共22類。

其中雖然《瓦森納協定》承認成員國能在自願對各自的技術出口進行控制，但是事實上成員國在重要的技術出口決定上面都會有美國的影響。

中國、伊朗、利比亞等國家都在被限制的國家名單之中。

這份協議牽絆住了中國半導體技的術發展。由於受限其《瓦森納協議》，中國從晶片設計、製造等許多領域，我國都不可以得到國外研發的最新科技。

ASML的危機

回到阿斯麥的討論，在晶片的規則一再被修改之後，阿斯麥不能夠自由出貨了，非常嚴格，就連EUV光刻機出貨到國外企業的中國分廠出貨都不可以，而對於相對低端一些的DUV光刻機僅僅於一般情況之下，對特定的廠商才可以出貨。

目前對於這一局面，阿斯麥真所謂心急如焚啊。整個中國的市場對於阿斯麥來說還是巨大的。

不僅英特爾始終不放棄在中國內建廠，而且臺積電、三星和SK海力士都在國內擁有眾多工廠，對於這些工廠來說，在進行產能提升、工藝等等過程之中，光刻機等等裝置是必不可少的。

另外一方面，目前的局勢已經在變化了，很多新技術開始能夠擺脫對於光刻機的依賴。這就給阿斯麥很多壓力，如果阿斯麥還是不能夠正常地自由出貨，那麼將會有被替代的危險。畢竟科技的發展速度是不等人的。

目前可知的新技術當中。NIL工藝可以在不使用EUV光刻機下，能將晶片製程縮小到5nm。另外對於先進的封裝工藝與堆疊技術晶片，能將晶片效能增加40%，有的甚至可以翻倍增加。

如今的華為等一些廠商都在研究更加先進的光電晶片技術，這種技術可以彎道超車，幾乎避免掉美晶片技術，也就是說不再需要阿斯麥光刻機等相關的裝置了。

機會總是交給有準備的人，我們在取代光刻機與擁有光刻機上面兩手都抓。所以在光刻機方面，可知我們的發展程序也不容小覷，國產光刻機的技術發展也非常很快，比如先進的曝光系統、浸潤系統等都完成了。據悉，屬於中國的全新一代光刻機已經在生產和測試階段了。

ASML的變臉

所以如今的阿斯麥慌了也很正常，現在已經打臉了，從原來的拒絕變成現在的供應78臺光刻機。

近日，阿斯麥朝中國供應了78臺光刻機。就在此前，中國在18年從阿斯麥那邊訂購的光刻機，可是一直沒收到貨。這回行動力這麼強的背後自然是無法割捨我國這全球最為龐大的晶片市場了。

要知道中國是全球裡最大的工業國，伴隨著中國近年來網際網路行業、人工智慧、新能源汽車等等行業的發展，對於晶片的所需也在只增不減的情況下。就在前兩年，整個中國的市場就為阿斯麥營造了20%的利潤。可想而知，要是阿斯麥沒有我國市場，造成的損失是不可估量的。

之前就是由於美國拒絕與我國合作，結果就是損失慘重。吃到苦果的阿斯麥這回再也沒像最開始那樣堅定地站在美方的立場了。所以阿斯麥在權衡一切情況之後，還是選擇與我們中國合作。

之前在第一季度已經給我國出貨了23臺光刻機。中國市場這塊肥肉怎麼可以拱手相讓呢。

另外在技術等方面阿斯麥也非常努力。自身會努力替身EUV 光刻的產能，並計劃在兩年裡面可以製造出115臺。並給自己設立了相對的目標，那就是在2025年實現EUV光刻機的全世界安裝使用率達到60%。

另外，阿斯麥發表宣告，全新一代的High NA EUV光刻機原型機會將在2023年完成，而在2024年交給廠商測試等。

除了技術方面的動作，對於在中國生根，阿斯麥似乎也志在必得。

此前，阿斯麥決定擴充在國內研發的規模，準備在中國招聘研發人員200名左右，另外還希望能夠在國內建設光刻機維修中心。

現在的科技局面的發展想必對於阿斯麥也是有些危險的，還是那句話機會總是給有準備的人的，阿斯麥除了發展自己光刻機方面的技術，更應該開始研究可以替代光刻機的相關技術了，畢竟凡事都應該給自己留些退路，不然真等到那一天就山窮水盡了。